Recubrimiento de pulverización de magnetrón de tres objetivos

NegociableActualización en08/04

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Descripción general

Introducción simple: introducción del producto: Cy - 600 - 3hd tres objetivos magnetron sputtering Coater es un recubrimiento de magnetron sputtering rentable desarrollado independientemente por nuestra empresa, que se puede utilizar para preparar películas ferroeléctricas de una o varias capas, películas conductoras, películas de aleación, películas semiconductoras, películas cerámicas, películas aislantes, películas ópticas, películas de óxido, películas duras, películas de politetrafluoroeftalato, etc. En comparación con equipos similares, el recubrimiento por pulverización de magnetrón de tres objetivos no solo es ampliamente utilizado, sino que también tiene la ventaja de que el volumen de orina es fácil de operar. es un equipo ideal para la preparación de películas de materiales en laboratorio, especialmente adecuado para la investigación de electrolitos de estado sólido y OLED en laboratorio.

Detalles del producto

Introducción detallada:

Perfil del producto:CYEl chorro de magnetrón de tres objetivos - 600 - 3hd es un recubrimiento de chorro de magnetrón rentable desarrollado independientemente por nuestra empresa, que se puede utilizar para preparar películas ferroeléctricas de una o varias capas, películas conductoras, películas de aleación, películas semiconductoras, películas cerámicas, películas ópticas, películas de óxido, películas duras, películas de politetrafluoroeftalato, etc. En comparación con equipos similares, no solo es ampliamente utilizado, sino que también tiene la ventaja de orinar en volumen y operar. es un equipo ideal para la preparación de películas de materiales en laboratorio, especialmente adecuado para la investigación de electrolitos de estado sólido y OLED en laboratorio.

Modelo de producto	Salpicadero de magnetrón de tres objetivos（CY-600-3HD(...)
Condiciones de instalación	Este equipo requiere que se utilice por debajo de 1000m sobre el nivel del mar, a una temperatura de 25 ° C ± 15 ° C y a una humedad del 55% RH ± 10% rh. 1. agua: el equipo está equipado con una máquina de agua de enfriamiento de autocirculación (llene agua pura o desionizada) 2. electricidad: ac220v 50hz, debe haber una buena puesta a tierra 3. gas: la Cámara de la Cámara del equipo debe llenarse de argón (con una pureza superior al 99,99%), y debe traer su propio cilindro de argón (con su propio conector de doble manga de 6 mm) y válvula de reducción de presión. 4. Mesa de trabajo: tamaño 1500mm × 600mm × 700mm, carga superior a 200kg 5. dispositivos de ventilación: necesarios
Características principales	1. configurar tres pistolas objetivo, una fuente de alimentación de radiofrecuencia de apoyo para el recubrimiento por pulverización de objetivos no conductores y dos fuentes de alimentación de corriente continua de apoyo para el recubrimiento por pulverización de materiales conductores (las pistolas objetivo se pueden cambiar arbitrariamente de acuerdo con las necesidades del cliente). 2. se pueden preparar varias películas finas y se utilizan ampliamente. 3. el tamaño es pequeño y la operación es simple. 4. el diseño modular de toda la máquina, la Cámara de vacío, el Grupo de bomba de vacío y el diseño dividido de la fuente de alimentación de control pueden ajustar las necesidades de compra de acuerdo con las necesidades reales de los usuarios. 5. la fuente de alimentación se puede seleccionar de acuerdo con las necesidades reales del usuario, una fuente de alimentación puede controlar varias pistolas objetivo, o una sola fuente de alimentación puede controlar varias pistolas objetivo.
Parámetros técnicos	1. tensión de alimentación: 220V 50hz 2. Potencia total: 2,5 kW 3. vacío límite: "E- 6 mbar (se puede alcanzar con el uso de equipos de la compañía)E-5mbar） 4. temperatura de trabajo: RT - 500 ℃, precisión ± 1 ℃ (la temperatura se puede aumentar de acuerdo con las necesidades reales) 5. número de armas objetivo: 3 6. modo de enfriamiento de la pistola objetivo: refrigeración por agua 7. tamaño del objetivo: 2, espesor 0,1 mm - 5 mm (varía según el material del objetivo) 8. potencia de pulverización de corriente continua: 500w (opcional) 9. potencia de pulverización por radiofrecuencia: 300w / 500w (opcional) 10. Mesa de muestra: 140 mm 11. velocidad de la Mesa de muestra: ajustable dentro de 1rpm - 20rpm 12. gases de protección: gases nobles como ar y N2 13. circuito de gas de admisión: El medidor de flujo de masa controla 2 canales de admisión, cada uno con 100 SCCM
Especificaciones del producto	Tamaño de la máquina principal: 500mm × 560mm × 660mm, tamaño de la máquina completa: 1300mm × 660mm × 1200mm; peso: 160kg
Accesorios estándar	1	Sistema de control de corriente continua	2 juegos
	2	Sistema de control de energía de radiofrecuencia	1 juego
	3	Sistema de monitoreo de espesor de película	1 juego
	4	600Bomba molecularGrupo	1 unidad
	5	Refrigeración industrial por aguaMáquina	1 unidad
	6	Tubería de agua de refrigeración (6 mm)	4 piezas
Accesorios opcionales	Oro, indio, plata, platino y otros objetivos

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