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Zimeng Technology le invita a participar en el Foro de desarrollo de materiales de molienda y pulido de precisión y tecnología de procesamiento 2025.
Fecha:2025-07-22Leer:5

Zimeng Technology le invita a participarForo de desarrollo de materiales de molienda y pulido de precisión y tecnología de procesamiento 2025

2025año7Luna24 - 25Celebrado en el Sheraton Dongguan el día de hoy2025Foro Nacional de desarrollo de materiales de molienda y pulido de precisión y tecnología de procesamiento (tercer)Este foro invitará a empresas aguas arriba y aguas abajo de la cadena industrial, institutos de investigación científica e instituciones de inversión de la industria a centrarse enTecnología de preparación de abrasivos, innovación tecnológica, investigación y desarrollo de equipos de pulido y aplicaciones industriales para molienda y pulido de precisiónIntercambios especiales en otros aspectos para contribuir a que la fabricación de precisión de China llegue a un nivel superior.

Con el desarrollo continuo y la actualización de circuitos integrados semiconductores, dispositivos médicos y industrias aeroespacial, los requisitos de las piezas de precisión básicas para la rugosidad de la superficie y la precisión de la superficie han alcanzado la magnitud nanométrica o incluso Atómica. El pulido fino y el pulido son los procesos centrales de pista trasera que afectan la fiabilidad y precisión de las piezas de precisión, y la tecnología de pulido de molienda de precisión está experimentando una innovación integral desde la investigación y el desarrollo de materiales hasta la innovación tecnológica.

梓梦科技邀您参加2025年精密研磨抛光材料及加工技术发展论坛

Debido a que los grandes abrasivos de partículas pueden rayar la superficie de la obleas, lo que resulta en una disminución de la calidad general,CMPEl líquido de pulido requiere minimizar la cantidad de partículas grandes. para zimeng technology, esta reunión de intercambio es una exhibición.Cómo detectarCMPPartículas grandes en el líquido de pulidoUna buena oportunidad.


En la reunión, zimeng Technology también proporcionará a todosLPCSistema de conteo de partículas grandes,CMPTecnología de análisis de tamaño de partícula plana y forma de partícula, personalización precisa de soluciones de partículas grandes de semiconductores.

Ø LPCAnalizador de recuento de partículas grandesZM-02

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Introducción del producto:

El analizador de conteo de partículas grandes se utilizaMétodo de bloqueo ópticoDiseño y producción de principiosContador de partículasSu función principal espruebaCMP lodoNúmero de partículas en el líquido medicinalComo sílice, óxido de cerio, alúmina y otros líquidos.ZM-02El producto revisa la cantidad de partículas de cualquier canal según sea necesario, como1 μm,2 μm,5 μmEspera.

Características técnicas:

ü Método de detección:Fuera de línea o en línea

ü Canales de datos:1.024

ü Canales personalizados:64

ü El límite superior de concentración de datos puede alcanzar1 x 10

ü El alcance de la detección es amplio,0,5 μm - 400 μm

ü Diseño modular para facilitar la actualización y el mantenimiento

ü Inyección totalmente automática, dilución automática, detección automática, limpieza automática, análisis de datos

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Para muestras con mayor viscosidad,Analizador de recuento de partículas grandesZM-02Se puede realizar una operación de un solo clic para identificar rápidamente partículas grandes de alto riesgo en el tamaño, sin operación de dilución manual, lo que reduce el error de medición, y mucho menos la limpieza manual, lo que mejora en gran medida la eficiencia de la detección.

Ø Analizador de partículas CMP / m3000

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Introducción del producto:

El analizador de partículas es un contador de partículas diseñado y producido utilizando el principio del método de imagen dinámica, cuya función principal es utilizarpruebaCMP lodoNúmero de partículas, forma de partículas y concentración de partículas de diferentes formas en el líquido medicinalComo sílice, óxido de cerio, alúmina y otros líquidos.

Las partículas de diferentes formas tienen diferencias obvias en el efecto de pulido y la tasa de rendimiento, y el control de la forma de las partículas eslodoParámetros importantes que deben controlarse en el proceso de producción.

Características técnicas:

ü Método de detección:Fuera de línea o en línea

ü Dilución totalmente automática, sin dilución manual

ü paraCMP lodoDetección de la concentración de partículas medianas

ü El límite superior de concentración de datos puede alcanzar1 x 109 por ml

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Datos de esfericidad

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Datos de dundu

Analizador de partículasM3000 youSe aplica aCMPEl control de parámetros como "esfericidad" y "contundencia" por parte de las empresas productoras de pulidos puede observar directamente la forma y el tamaño del tamaño del purín y ajustar eficazmente el proceso de producción, mejorando así la calidad del producto y la eficiencia de la producción. En el futuro campo del pulido de precisión, el analizador de partículasM3000Se espera que ayude a las empresas a ocupar una posición más favorable en el mercado.

Conclusión

Zimeng Technology ha establecido un sistema perfecto de servicio post - venta para proporcionar a los clientes un apoyo integral. Ya sea la instalación y puesta en marcha de instrumentos, la capacitación operativa, el mantenimiento posterior y las actualizaciones técnicas, hay un equipo profesional que responde y maneja a tiempo para proporcionar a las empresas de semiconductores.Soluciones de partículas grandes de semiconductores personalizadas con precisión.

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