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Changzhou Xianzhu Drying Equipment Co., Ltd
Principio de proceso del equipo de la secadora de rastrillo de vacío
Fecha:2025-03-05Leer:2
El secador de rastrillo al vacío es un equipo de secado ampliamente utilizado en los campos farmacéutico, alimentario y químico. Su principio tecnológico es formar una interfaz Gas - sólido en la superficie del material a baja temperatura y baja presión, promoviendo la evaporación del agua en el material y logrando así el propósito de secado.
Principio tecnológico del equipo del secador de rastrillo de vacío:
1. secado al vacío
El secado al vacío es un proceso de secado al vacío y la base para lograr el secado al vacío. El secado al vacío consiste en utilizar un ambiente de baja presión y baja temperatura en un ambiente de vacío para formar una interfaz Gas - sólido en la superficie del material, haciendo que el agua en el material se evapore a baja temperatura y baja presión. El secado al vacío es un proceso de secado que se puede completar a baja temperatura y baja presión, evitando el impacto de alta temperatura y alta presión en los materiales.
2. secador de rastrillo
El secador de rastrillo es un equipo de secado común, que se caracteriza por rastrillar mecánicamente el material durante el proceso de secado, lo que permite que el material se caliente uniformemente. El efecto de secado del secador de rastrillo es mejor, lo que puede evitar el impacto de la temperatura excesiva en el material. Otra característica de la secadora de rastrillo es que la fluidez de los materiales durante el proceso de secado es relativamente buena, lo que puede evitar problemas como el atasco y la acumulación de materiales.
3. máquina de secado al vacío
El secador de rastrillo al vacío combina las características del secado al vacío y el secador de rastrillo, que es un equipo de secado que Rastrilla mecánicamente el material a baja temperatura y baja presión. En un ambiente de vacío, la temperatura de evaporación del agua se reduce, lo que permite lograr un efecto de secado a una temperatura más baja, protegiendo al mismo tiempo el material, pero también logrando un mejor efecto de secado.
En el secador de rastrillo al vacío, después de que el material se coloca en la Cámara de secado, la superficie del material forma una interfaz Gas - sólido ajustando el vacío y la temperatura de la Cámara de secado. El agua en el material se evapora debido a la influencia de la energía, y el agua evaporada es expulsada por el sistema de vacío. Durante el proceso de secado, el material se Rastrilla mecánicamente para que el material se caliente uniformemente, mejorando así el efecto de secado, reduciendo al mismo tiempo el contacto entre el material y la pared del secador y evitando el deterioro del material.
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